光刻胶
成功测量光刻胶要面对一些独特的挑战， 而 Filmetrics 自动测量系统成功地解决这些问题。 这些挑战包括避免测量光源直接照射， 拥有涵盖广泛的光刻胶折射率资料库, 以及有能力处理光刻胶随烘烤和暴露而改变的折射率。
| 厚度范围* | 应用 | 仪器型号 |
|---|---|---|
| 1nm - 450µm | 单点 | F20 |
| 0.4µm - 3mm | 单点 | F3-sX |
| 5nm - 3mm | 厚度测绘 | F50/F60 |
测量SU-8 其它厚光刻胶的厚度有特别重要的应用。 因为旋涂 SU-8 的方法虽简便快速，但可能会导致所需厚度不太精确。 而暴露时间取决于光刻胶的厚度, 因此必须进行精确测量。 另外，由于正负光刻胶可以同时用于制造复杂的多层 MEMS 结构, 了解各层的厚度就变得极端重要。
Filmetrics 提供一系列的和测绘系统来测量 3nm 到 1mm 的单层、 多层、 以及单独的光刻胶薄膜。 所有的 Filmetrics 型号都能通过精确的光谱反射建模来测量厚度 (和折射率)。 独家的算法使得“一键”分析成为可能，通常在一秒钟内即可得到结果。
联络 Filmetrics 讨论您的测量需要。
Filmetrics 提供 免费测试 - 一般1-2 天即可得到结果。
测量范例
测量光刻胶涂层厚度的能力对开发和制造各种半导体器件如MEMS至关重要。Filmetrics提供测量SU-8和其它光刻胶厚度的广泛的解决方案。此案例中，我们演示如何用F20 和F50快速有效地测量硅胶上SU-8 涂层单光斑和多点厚度。测量设定:
F50晶圆测绘配RP1光纤
使用程式:
测量结果:
