光刻胶

测量厚光刻胶厚度

成功测量光刻胶要面对一些独特的挑战, 而 Filmetrics 自动测量系统成功地解决这些问题。 这些挑战包括避免测量光源直接照射, 拥有涵盖广泛的光刻胶折射率资料库, 以及有能力处理光刻胶随烘烤和暴露而改变的折射率。

*厚度范围取决于仪器,选项,和测量材料。
厚度范围* 应用 仪器型号
1nm - 3mm 单点 F20 / F3-sX
0.1µm - 2mm 单点 F70-NIR
3nm - 3mm 厚度测绘 F50
1nm - 3mm 全自动晶圆盒式测绘 F60-c
索取应用说明

测量SU-8 其它厚光刻胶的厚度有特别重要的应用。 因为旋涂 SU-8 的方法虽简便快速,但可能会导致所需厚度不太精确。 而暴露时间取决于光刻胶的厚度, 因此必须进行精确测量。 另外,由于正负光刻胶可以同时用于制造复杂的多层 MEMS 结构, 了解各层的厚度就变得极端重要。

Filmetrics 提供一系列的和测绘系统来测量 3nm 到 1mm 的单层、 多层、 以及单独的光刻胶薄膜。 所有的 Filmetrics 型号都能通过精确的光谱反射建模来测量厚度 (和折射率)。 独家的算法使得“一键”分析成为可能,通常在一秒钟内即可得到结果。

联络 Filmetrics 讨论您的测量需要。

Filmetrics 提供 免费测试 - 一般1-2 天即可得到结果。

测量范例

测量光刻胶涂层厚度的能力对开发和制造各种半导体器件如MEMS至关重要。Filmetrics提供测量SU-8和其它光刻胶厚度的广泛的解决方案。此案例中,我们演示如何用F20 和F50快速有效地测量硅胶上SU-8 涂层单光斑和多点厚度。

测量设定:

使用程式:

测量结果: