Silicon的折射率

硅是地球上第二个最常见的元素。它是几乎所有的非光学半导体器件的基础。从光学上讲，硅的折射率和消光系数在探测器和反射器上最吸引人。

下表中的折射率适用于暴露在样品表面的111或100 晶面。掺杂程度对折射率在此波长范围内（200至2500纳米）只有非常小的影响。当暴露在氧化环境下，硅形成接近理想表面的SiO2 层。这个在日常环境中形成的“本土”氧化层，在测量超薄薄膜在硅片上的厚度或折射率时往往必须考虑。

对于常见材料例如Si, 它在632.8 纳米波长的折射率和消光系数分别为3.882和0.019。 下面列出的材料包含完整的折射率和消光系数， 如果你需要的材料无法下载，你可以点击“索取”来索取我们专有的材料文件。

• 以制表符分隔的数据文件来用于广泛应用
  下载

折射率引用 - Handbook of Optical Constants of Solids, Edward D. Palik. Academic Press, Boston, 1985

D. E. Aspnes and J. B. Theeten (1980) "Spectroscopic Analysis of the Interface Between Si and Its Thermally Grown Oxide" J. Electrochem. Soc., Volume 127, Issue 6, pp. 1359-1365 doi :10.1149/1.2129899
Wikipedia: Silicon

Filmetrics 不保证信息准确无误，使用者风险自负。