测量范围
使用 光谱反射技術
材料： 至少部分透明的薄膜， 加上所有的半导体 (透明或不透明)。 薄膜在外观上至少要有某种程度的光泽。
厚度范围: 测量从 1nm 到 3mm 的厚度。 测量 70nm 到 10um 薄膜的折射率。
| 単位 | 厚度范围 | |
|---|---|---|
| 最低 | 最高 | |
| Å | 10 | 10^8 |
| nm | 1 | 10^7 |
| kÅ | 0.01 | 10^5 |
| µm | 0.001 | 10000 |
| µm-in | 0.04 | 40^4 |
| mils | 0.00004 | 400 |
| mm | 10^-6 | 10 |
| g/cm^2 | 10^-7 | 1 |
能够测量厚度大于10nm的薄膜折射率 （这也取决于材料本身）
可测量的层数: 通常能够测量薄膜堆内的三层独立薄膜。 在某些情况下，能够测量到十几层。
基板材料: 如果薄膜位于粗糙基板 (大多数金属) 上的话，一般不能测量薄膜的折射率。 此外，粗糙基板还将最低的可测量薄膜厚度限制为大约 50nm。
所需的信息: 必须了解样品中所有薄膜的顺序、名称和标称厚度，不管它们是否有待于测量。
使用 光学轮廓测量技術
我们的Profilm3D光学轮廓仪可在0.1纳米至3毫米的范围内测量表面粗糙度，表面形貌和台阶高度。台阶高度测量功能可用来测量不透明材料（如金属）厚度的理想选择。点击这里了解更多.
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