F30 系列

监控薄膜沉积,最强有力的工具

F30 光谱反射率系统能实时测量沉积率、沉积层厚度、光学常数 (n 和 k 值) 和半导体以及电介质层的均匀性。

样品层

分子束外延和金属有机化学气相沉积: 可以测量平滑和半透明的,或轻度吸收的薄膜。 这实际上包括从氮化镓铝到镓铟磷砷的任何半导体材料。

各项优点:

  • 极大地提高生产力
  • 低成本 —几个月就能收回成本
  • A精确 — 测量精度高于 ±1%
  • 快速 — 几秒钟完成测量
  • 非侵入式 — 完全在沉积室以外进行测试
  • 易于使用 — 直观的 Windows™ 软件
  • 几分钟就能准备好的系统

型号规格

*取决于薄膜种类
型号 厚度范围* 波长范围
F30 15nm-70µm 380-1050nm
F30-EXR 15nm - 250µm 380-1700nm
F30-NIR 100nm - 250µm 950-1700nm
F30-UV 3nm-40µm 190-1100nm
F30-UVX 3nm - 250µm 190-1700nm
F30-XT 0.2µm - 450µm 1440-1690nm

常见的选购配件: