F54-XY系列

图案化晶圆的自动膜厚测量

F54-XY拥有先进的反射光谱仪系统,可轻松实现对最大300mm晶圆样品的膜厚测量。

F54-XY-200型膜厚仪可测量最大尺寸200mm的样品,电动XY载台可实现预选点位的自动测量,测量速度最高可达每秒2个视场点。

F54-XYT-300型膜厚仪具备高性能旋转样品台,可实现对300mm晶圆样品的测量。

系统内置极坐标、矩形阵列、直线等多种点位图形,用户也可自定义创建测量点阵,且无最多测量点数的限制。

模式识别功能可满足阵列式或非阵列式晶圆的测量需求。

F54-XY系列不同机型的主要区别在于待测薄膜的厚度和光源波段。一般情况下,待测膜厚越小,则需使用更短波长的光源进行测量(如 F54-XY-200-UV),反之长波光源则可以满足更厚、粗糙或透明度更低的薄膜厚度测量需求。

包含的内容:

  • 集成光谱仪/光源装置
  • FILMapper 测量软件
  • SiO2厚度标准
  • 集成式硅反射标准
  • 真空泵

F54-XY 选配

  • 模式识别软件
  • 自动转塔
  • 高通滤波器转轮
  • 可追溯的 NIST 厚度标准

型号规格

*取决于薄膜种类
型号 厚度范围* 波长范围
F54-XY 20nm-50µm 380-1050nm
F54-XY-UV 4nm-35µm 190-1100nm
F54-XY-NIR 100nm-120µm 950-1700nm
F54-XY-EXR 20nm-120µm 380-1700nm
F54-XY-UVX 4nm-120µm 190-1700nm
厚度范围*

独特的优点

  • 每台系统內建超过130种材料库, 随着不同应用更超过数百种
  • 应用工程师可立刻提供帮助(周一 - 周五)
  • 网上的 “手把手” 支持 (需要连接互联网)

常见的选购配件: